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在溫室中栽培西瓜，可以利用設(shè)施的有利條件，實(shí)行寬窄行、吊秧、籬架栽培，一般寬行距90--100厘米、窄行距40—50厘米，株距按40--50厘米，其栽植密度提高至1800--2400株/畝。

西瓜定植后，為提高早期葉面積系數(shù)，不可急于抹芽，應(yīng)讓其隨意生長，盡快增加葉面積，促根壯秧。待瓜秧長至60厘米以上時(shí)，方可抹芽打杈。抹芽時(shí)先選留4條大蔓（包括主蔓），讓其繼續(xù)生長，其余的小瓜蔓一律疏除。

留下的瓜蔓，從中選出兩條較大的瓜蔓，用吊瓜線按吊架黃瓜的方法，吊向空中，吊蔓時(shí)要采取“S”型纏蔓，使瓜蔓彎曲上升，以緩和瓜蔓長勢(shì)，和充分利用空間。瓜蔓葉腋間發(fā)出的二次副蔓，除座瓜節(jié)位處的1條，留3—4葉摘心，保留外，其余副蔓要全部及早疏除，以防止生長點(diǎn)過多，造成營養(yǎng)競(jìng)爭(zhēng)，惡化光照條件，影響座瓜。

對(duì)另外二條瓜蔓，一條留8—10葉摘心，并抹除其二次副蔓，另一條瓜蔓，要及時(shí)抹除二次副蔓，讓其在行間地面上延伸，人工授粉的同時(shí)摘除其生長點(diǎn)及其副蔓，排除競(jìng)爭(zhēng)，以利座瓜。

這樣操作，可以在西瓜的生育早期，較多地保留成齡葉片，增大瓜田早期的葉面積系數(shù)，充分利用空間。較大的葉面積，能較多地制造有機(jī)營養(yǎng)，促進(jìn)根系發(fā)達(dá)、壯秧、促瓜，為以后的高產(chǎn)優(yōu)質(zhì)打下基礎(chǔ)。

西瓜坐穩(wěn)以后，一般情況下，隨著幼瓜的加速膨大，瓜秧營養(yǎng)生長會(huì)逐漸減慢、直至停止。但在溫室中栽培，因栽植密度大，肥水充足，瓜秧仍會(huì)旺長不停，若任其生長，會(huì)造成瓜秧郁閉，光照條件惡化，減少光合產(chǎn)物的積累，造成西瓜減產(chǎn)，且易誘發(fā)病害。

因此，要注意及時(shí)控制瓜秧長勢(shì)，一旦瓜秧長至長2米左右時(shí)，要及時(shí)摘除瓜頭，疏除分杈。改善光照條件，提高光合效率，并抑制瓜秧營養(yǎng)生長長勢(shì)，促進(jìn)有機(jī)營養(yǎng)輸入中心及時(shí)地轉(zhuǎn)向幼瓜。